Al mismo tiempo

Cambiar el alivio de la superficie de SI durante el tratamiento térmico se debe al desarrollo de dos procesos competidores de crecimiento de grano y la formación de montículos en la superficie de las películas. El tamaño del grano aumenta con un aumento de la temperatura de acuerdo con la ley exponencial y con T500C alcanza 350 nm. Al mismo tiempo, comenzando con el T200C en la superficie de la película, hay una formación de colinas con dimensiones laterales de 400-600 nm y hasta 25 nm de altura.